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潔淨室溫濕度控制的(de)重要性


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2016年06月(yuè)12日--來(lái)源:潔淨室+--作者:佚名

潔淨室溫濕度控制的(de)重要性
 提要:在潔淨室中,除了(le)控制顆粒,空氣中溫度,濕度和(hé)煙(yān)霧的(de)含量也(yě)需要規定與控制。

 
 溫度控制對(duì)操作員(yuán)的(de)舒适性與工藝控制是很重要的(de)。許多(duō)利用(yòng)化(huà)學溶劑來(lái)做(zuò)刻蝕與清洗的(de)工藝都在沒有溫度控制的(de)設備箱内完成,隻依賴于潔淨室溫度的(de)控制。這(zhè)種控制非常重要,因爲化(huà)學反應會随溫度的(de)變化(huà)而不同,例如,每升高(gāo)十攝氏度,刻蝕速率參數加二。通(tōng)常的(de)室溫爲72華氏度,上下(xià)幅度兩度。
 
相對(duì)濕度也(yě)是一個(gè)非常重要的(de)工藝參數,尤其在光(guāng)刻工藝中。在這(zhè)個(gè)工藝中,要在晶片表面鍍上一層聚合物(wù)作爲刻蝕膜版。如果濕度過大(dà),晶圓表面太潮濕,會影(yǐng)響聚合物(wù)的(de)結合,就象在潮濕的(de)畫(huà)闆上繪畫(huà)一樣。如果濕度過低,晶圓表面就會産生靜電,這(zhè)些靜電會從空氣中吸附微粒。一般相對(duì)濕度應保持在15%到50%之間。
 
煙(yān)霧是潔淨室的(de)另一個(gè)空中污染源。而它同樣對(duì)光(guāng)刻工藝影(yǐng)響最大(dà)。光(guāng)刻中的(de)一個(gè)步驟與照(zhào)相中的(de)曝光(guāng)相似,是一種化(huà)學反應工藝。臭氧是煙(yān)霧中的(de)主要成分(fēn),易影(yǐng)響曝光(guāng),必須被控制。在進入空氣的(de)管道中裝上碳素過濾器可(kě)吸附臭氧。